ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

『RVS-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さなざまな試作開発に 必要な機能と性能を一台に凝縮。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ペルチェ温度コントローラ『TA-30』

入力電圧8～12V！温度設定、パラメータ設定が簡単にできるペルチェ素子…

『TA-30』は、小型で高精度のペルチェ素子専用コントローラです。 入力電圧：8～12V、出力電流：5Amax.で、 基本機能限定により、高いコストパフォーマンス。 また、温度設定、パラメータ設定が簡単にでき、通信機能により、 PCから温度設定・監視が可能となっております。 【特長】 ■小型で高精度 ■基本機能限定により、高いコストパフォーマンス ■温度設定、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＭＫＴタイセー

ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

『RSS-3×210-S』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ペルチェ温度コントローラ『TA-20』

基本機能限定により、高いコストパフォーマンス！温度設定、パラメータ設定…

『TA-20』は、小型で高精度のペルチェ素子専用コントローラです。 入力電圧：5V、出力電流：5Amax.、温度設定範囲：-20～＋110℃で、 基本機能限定により、高いコストパフォーマンス。 また、温度設定、パラメータ設定が簡単にでき、通信機能により、 PCから温度設定・監視が可能となっております。 【特長】 ■小型で高精度 ■基本機能限定により、高いコストパフォーマン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＭＫＴタイセー

ペルチェ温度コントローラ『TA-151』

通信機能により、PCから温度設定・監視が可能！温度設定、パラメータ設定…

『TA-151』は、小型で高精度のペルチェ素子専用コントローラです。 入力電圧：8～24V、出力電流：8Amax.、温度設定範囲：-80～＋150℃で、 基本機能限定により、高いコストパフォーマンス。 外径寸法は、W120×D100×H44mm（突起部を除く）となっており、 通信機能により、PCから温度設定・監視が可能です。 【特長】 ■小型で高精度 ■基本機能限定により...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＭＫＴタイセー

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社