• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • 【資料】高濃度揮発分含有ポリマーの脱揮技術 製品画像

    【資料】高濃度揮発分含有ポリマーの脱揮技術

    各種ポリマー製造プロセスへの適用が可能!高濃度揮発分含有ポリマーの脱揮…

    当資料では、二軸押出機「TEX」を利用したポリマー中の高濃度揮発分を 直接除去する技術を紹介します。 当社は、多くの検証実験により各種ポリマー中に含まれるモノマーや 溶媒の脱揮技術を確立しています。 高濃度揮発分脱揮の主要技術をはじめ、装置構...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部

  • TEX水添加脱揮効果の紹介 製品画像

    TEX水添加脱揮効果の紹介

    高効率な揮発分除去と低温押出が同時に可能!水添加脱揮押出技術のご紹介で…

    当社は、ポリマー中の揮発成分除去方法の一つに二軸押出機『TEX』を使用 した脱揮押出がありますが、年々厳しくなる残留揮発分濃度低減要求に対応 するため、水添加脱揮押出技術を開発しました。 脱揮助剤として水を注入することで、従来では達成できなかったレベル (残留揮発分濃度数+ppmあるいは数ppm)まで脱揮性能を高...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部

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