除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

腐蝕性ガス除去空気清浄装置

脱硫化水素（H2S）！様々なラインアップより、お客様の使用環境に応じて…

化学プラント、石油精製・石油化学工業、地熱発電所などで使用可能。 用途により様々なラインアップをご用意しているので、お客様の 使用環境に応じてカスタマイズできます。 【特長】 ■高濃度、急激な濃度変化にも対応 ■除去効率が95％以上（使用環境の気密性による） ■主な対応ガス：硫化水素ガス、メチルメルカプタン、亜硫酸ガス ■用途により様々なラインアップをご用意 ■お客様の使...

メーカー・取り扱い企業： 伸栄産業株式会社