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PR繰り返し使うことで環境負荷削減!金属製の高性能な高温集塵フィルター。
「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90~99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社布引製作所 本社
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PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます
当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...
メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社
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結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度(%):原液 ・温度(℃):常温 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・500ml~10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…
【処理条件】 ■濃度(%):原液 ■温度(℃):常温 ■時間:15分~2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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除染ガス発生装置『steriXcure』
養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不…
水戸工業株式会社