ピュアスチーム発生装置

PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御（予測制御）により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L＋EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

メーカー・取り扱い企業： クリーンメカニカル株式会社 本社

ドラフトチャンバー『ウォークインタイプ DFW型』

PR内部に大型の実験装置や機器を組込めるウォークインタイプのドラフトチャン…

『ウォークインタイプ DFW型』は、多田製作所社製のドラフトチャンバーです。 ドラフトチャンバー内部は床面より十分な有効高さを持っていますので、 フード内に大型の装置や機器を組み立てたり、外部で組み立てた装置を フード内に移動させることも容易に行えます。 独自の気流設計により床面に発生するガスもスムーズに排気されます。 オールステンレス製や防爆仕様等、ご要望に応じた設計が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社多田製作所

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社