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69件 - メーカー・取り扱い企業
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20分ほどの短時間でも消臭できるように!臭いが強いものでも完璧に取り除…
効果的だという結論に至り、当社の「オースリークリア2」を導入。 今まで窓を開けての換気だけでは取り除くことが難しかったお部屋の臭いが 「オースリークリア2」を使用し始めてから、20分ほどの短時間でも 消臭できるようになりました。 【事例概要】 ■課題 ・部屋の臭いに対する問題を模索した結果、オゾン発生器が一番効果的 だという結論に至った ■導入結果 ・20分ほどの短時...
メーカー・取り扱い企業: アースウォーカートレーディング株式会社
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短時間での消臭、脱臭、除菌に!高出力オゾン発生器。業界最安値!オゾン生…
ストーンを使うと0.5ppm~1ppm程度のオゾン水を生成することが可能です。 【特長】 ■【オゾン生成量300mg/hr】この発生量でこの価格は業界最高レベル ■ 高濃度オゾン生成で短時間で消臭、脱臭、除菌が可能 ■ タイマーでオゾンの放出時間を設定可能 ■ 付属チューブで狭い場所にも集中的に放出可能 ■ 付属エアストーンでオゾン水の生成も可能 ■ 1.3kgと軽量。女性で...
メーカー・取り扱い企業: アースウォーカートレーディング株式会社
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マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理
Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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1度セットして30分もすれば消臭完了!女性社員でも楽々持ち運びが可能で…
オゾン発生装置を依山楼岩崎様に導入した事例をご紹介します。 近年、禁煙室希望や消臭希望の問合せが多く、市販の消臭剤および 空気清浄器だけでの短時間消臭には限界がきており、なかなか消臭できない 部屋は、1~2日がかりでの消臭となってしまい、その間は、客室の稼働が できなく困っておりました。 そこで、当社の「オースリークリア2」を導入...
メーカー・取り扱い企業: アースウォーカートレーディング株式会社
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【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン
Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析
Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理
代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析
Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン
カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…
ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【オゾンクラスター1400導入事例】ビジネスホテルやかた 様
短時間で脱臭!メンテナンスにおいても部品の交換で末永く使える点も経済的…
設定する事が厳しい ・どうしてもタバコ臭を消すことができず苦慮していた ■導入結果 ・フィルター式の空気清浄機や消臭剤・消臭スプレーでは とれていなかった臭いが不思議なくらいとれた ・短時間で脱臭できるため、営業上客室を空けることが無くなった ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アースウォーカートレーディング株式会社
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エア・ウォーター・ベルパールの高性能MSCとシステム化技術で、安価な窒…
ム化技術で、安価な窒素ガスを供給します。 エア・ウォーター・ベルパール MSN(Molecular Sieving Carbon)は酸素吸着量および酸素と窒素の吸着速度差が大きく、加圧下において短時間のうちに酸素を優先的に吸着し、空気より窒素ガスを分離できます。また、常圧に戻すことにより吸着した酸素は容易に着脱され、MSCは再生されます。 エア・ウォーター・ベルパール PSA(Pressur...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター株式会社
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