除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

【導入事例】イオン交換樹脂による排水(フッ素・ホウ素)処理

排水に含まれるフッ素・ホウ素を基準値まで低減処理する事ができた事例をご…

イオン交換樹脂による排水中のF、B除去を行った事例をご紹介します。 事業所で新規に製造を開始する製品の洗浄工程で発生するフッ素を下水道 放流基準まで処理したいが、製品の製造に使用する薬液にフッ酸・ホウ酸が 含まれており、製品を洗浄したところ、排水中のフッ素・ホウ素の濃度が 基準値を超過。 既設の排水処理設備では受入が出来なかった為、既設排水処理設備に 合流する前に基準値まで低減...

メーカー・取り扱い企業： 室町ケミカル株式会社 化学品事業部