• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • オゾンマイクロナノバブル発生装置 FoamestO3G 製品画像

    オゾンマイクロナノバブル発生装置 FoamestO3G

    ・臭わない ・ガスのオゾンでもっと長持ち ・溶解オゾン+オゾンB.…

    FoamestO3シリーズ FoamestO3は、Foamestシリーズの中でも特に、オゾン対応に特化したシリーズです。素材として、ステンレスやフッ素樹脂など耐オゾン性に優れたものを使用しています。 オゾンガスをB.nanoにすることで、ガスそのままでは扱いにくかったオゾンを、有効に、さらに効果的に扱うことができるようになります。オゾンガスとオゾン水、そしてオゾンB.nanoは、いずれもオゾン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナック

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