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    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 【資料】過酸化水素BIの性能に影響するパラメータ 製品画像

    【資料】過酸化水素BIの性能に影響するパラメータ

    無菌充填物ラインを汚染除去するために産業現場で使用されるVHPについて…

    当資料は、過酸化水素BIの性能に影響するパラメータについて ご紹介しております。 除染/除菌媒体としてVHPを使用することの潜在的な利点や、 菌数などについての解説も掲載。 ご不明点、ご質問、製品のお問い合わせに関してはレーベン・ジャパン 株式会社までお気軽にお問い合わせ下...

    メーカー・取り扱い企業: レーベン・ジャパン株式会社

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