除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

超高速液体クロマトグラフ用送液ポンプ（UHPLC）

＜中古分析機器＞

130 MPa送液を実現した送液ユニットです。 （S2446-05）...送液方式：ミクロボリューム並列ダブルプランジャ方式 プランジャ容量：10 μL 流量設定範囲 ・0.0001～3.0000 mL/min（～130 MPa） ・3.0001～5.0000 mL/min（～80 MPa） ・5.0001～10.0000 mL/min（～22 MPa） 流量正確さ：±1 %（指定条件...

メーカー・取り扱い企業： テクノミックス株式会社

超高速液体クロマトグラフ用オートサンプラ（UHPLC）

＜中古分析機器＞

130 MPaの耐圧を有したオートサンプラです。0.1 μLから最大50 μL（ループ注入方式時は20 μL）まで試料を注入できます。また、条件設定の容易な「標準注入モード」のほか、一定の周期ではさみ込み分析の設定ができる「リピートインジェクションモード」があり、分析目的に合った試料注入が可能です。 （S2446-06）...注入方式：全量試料注入方式、注入量可変式 最大使用圧力：130 MPa...

メーカー・取り扱い企業： テクノミックス株式会社