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PR導電率2.1μS/cm以下!必要な機器をワンパッケージにして、機器選定…
『RO-1200』は、純水製造に必要な機器をユニット内にパッケージ化した ユニット型純水製造装置です。 ベースとなる設計があることで、仕入れや製造にかかるコストを抑え、 また、造水量ごとに設計された汎用製品だから短納期化を実現。 お求めの水質グレードに対応するオプション機能をご用意しております。 【特長】 ■必要な機器をワンパッケージに ■ユニット設計で低コスト化を実現&...
メーカー・取り扱い企業: ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社
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高性能除水装置『スイトール』【抜群の除水力と低騒音を実現!】
PR技術資料『除水作業の5つの問題を解決する方法』進呈中!ブロア、エアー、…
除水作業が不十分な場合、残水による臭いやカビ、段ボール箱の破損 などを防止するため、再度拭き取り作業を行っています。『スイトール』 は、抗菌入り特殊ウレタンスポンジを採用し、コンパクトで効率良い除水 が可能です。対象物の厚みを調整し、固形物のつぶれの心配もありません。 ◎技術資料『除水作業の5つの問題を解決する方法(NEW)』を進呈中です! 【特長】 ■抗菌剤入り特殊ウレタンスポン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッコー 本社、札幌営業所、東京営業所
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個片ニーズに対応した新マイクロボールシステム!ボール消費量を抑制
【基本仕様】 ■基本スペック ・アライメント精度(印刷・搭載):±10(µm) ・基板サイズ:□35∼□120(mm) ・ピッチ:90(µm) ・ボール径:Φ45~300(µm) ・外形寸法:9440W×2100D×1760H(mm) ・重量:約17800(kg) ■LD/ULDはJEDECトレ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210
フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…
:IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフロー...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):240K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7イ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ100mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):180K/min.(T=450℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S
対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…
0℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1.5%以内 ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=300℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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