除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

非接触型ディスペンサー dragonfly discovery

PR高い汎用性、高い粘性も問題なし ポジティブディスプレイスメント式非接…

dragonfly discoveryは、ポジティブディスプレイスメント方式とディスポーザブルシリンジの両方を採用した新しい非接触型ディスペンサーです。 汎用性の高さ、使いやすいソフトウェアで、１台で様々なアッセイ・研究に対応します。 ●ポジティブディスプレイスメント方式 ピストンが液体を押し出す方式です。粘性・表面張力など様々な溶液に対し、液体ごとのクラス設定なしで正確な分注が行えます...

メーカー・取り扱い企業： SPT Labtech Japan株式会社

紫外線洗浄改質処理装置【コンベア式】

照射ムラの少ないコンベアタイプ表面処理装置

UVランプを3本搭載したコンパクトなUV洗浄装置です。 コンベアスピードと照射距離を自由に調整することができます。 駆動部・摺動箇所の発塵に配慮した構造となっています。 少量生産に最適です。 ...【仕様】 [光源部] ■寸法：1300×550×431H mm　　■重量：50kg ■使用ランプ：SUV110WS-55L×3本 ■照射エリア：380×260mm ■照...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

卓上型表面処理装置

自分で照度調整ができる汎用タイプの表面処理装置

光源と試料台の間には距離があるため立体的な表面もUV処理することができる装置です。 シャッタータイプと片開扉タイプの2種類がございます。 【特徴】 シャッタータイプ：・光源～試料台までの照射距離が20～80mmまで可能 　　　　　　　　　・連続照射できるので照度が安定し易い仕様 片開扉タイプ：・光源～試料台までの照射距離が0～80mmまで可能 　　　　　　　・照射距離もシャッタ...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

卓上型表面処理装置 【ターンテーブル】

自動回転テーブルの卓上型表面処理装置

光源部と電源部が一体になった非常にコンパクトなUV洗浄装置です。 UVランプ1本で200×200mmの照射サイズができます。 試料台が自動回転するので均一に照射できます 照射距離が5～200mmまで可変でき1mm毎に調節できます ...【仕様】 ■寸法：530×586×524H mm　　■重量：62kg ■使用ランプ：EUV200GS-14L×1本 ■照射エリア：20...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社