除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

感染症対策　UVC空気除菌装置　eLENA(エレナ）

感染症予防のために設計・開発・デザインされた「感染症対策UVC空気除菌…

紫外線照射 使用目的 　：空中浮遊菌の除菌 使用ランプ ：20W×2本 ランプ寿命 ：8,000h 処理風量 　：1.0/2.0/3.0m3/min 電源電圧 　：AC100V 50/60㎐ 消費電力 　：65W 本体サイズ ：H983mm×Φ200m(脚部Φ270) 質量 　　　 ：（約14.5kg） タイマー ：切1/2/3h 操作パネル ：静電式：電源・風...

メーカー・取り扱い企業： フジデノロ株式会社