除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

精密研磨非球面レンズ『TO-25-15＃0958』

直径は25mm、開口数は0.830mm！バックフォーカスは8.42mm

当社で取り扱う、精密研磨非球面レンズ『TO-25-15＃0958』をご紹介します。 中心厚は11mm、コバ厚は1.64mm、裏面はPlano、表面質量は60-40。 材質はH-ZF2/N-SF5を採用しております。 また、有効焦点距離は15mm、バックフォーカスは8.42mmです。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【基本情報...

メーカー・取り扱い企業： 宇光株式会社

精密研磨非球面レンズ『TO-25-25＃0985』

中心厚は9.75mm、コバ厚は1.75mm！材質は7980-0Gを採用…

0985』をご紹介します。 材質は7980-0Gを採用。直径は25mmで、有効焦点距離25mm、 バックフォーカスは18.32mmとなっております。 また、裏面はPlano、表面質量は60-40です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■材質(Material)：7980-0G ■直径(Diameter)：25mm ■有効焦点距離(EFL)：25mm...

メーカー・取り扱い企業： 宇光株式会社

精密研磨非球面レンズ『TO-12.5-10＃0911』

材質は7980-0G/Fused Silica！直径12.5mm、有効…

【その他の基本情報】 ■中心厚(CT)：8mm ■コバ厚(ET)：2.03mm ■裏面(Backside Shape)：Plano ■表面質量(Surface Quality)：60-40 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 宇光株式会社

精密研磨非球面レンズ『TO-25-30＃0117』

直径25mm、有効焦点距離30mmで、バックフォーカス24.17mm！

【その他の基本情報】 ■中心厚(CT)：8.5mm ■コバ厚(ET)：2.21mm ■裏面(Backside Shape)：Plano ■表面質量(Surface Quality)：60-40 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 宇光株式会社