• 高粘度・高濃度スラリー用 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    高粘度・高濃度スラリー用 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • インライン型粉砕機 MKO 製品画像

    インライン型粉砕機 MKO

    メディアレスによる高性能湿式分散・粉砕機、コーンミルMKO

    インライン型粉砕機「MKO」」はメディアレスによる高性能湿式分散・粉砕機です。コーンミルMKOは、コロイドミルMKを発展させた機械で、ローター表面を石臼上に加工しており、さらなる微粒子化を達成できます。IKA社のプロセス機...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンマルエンタープライゼス

  • ドレッシング製造装置 2000シリーズ 製品画像

    ドレッシング製造装置 2000シリーズ

    【テスト可】ローターステーターシステムによるシームレスなスケールアップ…

    選択が可能になっており、分散機1台で様々なアプリケーションに対応できます。 ■UTL/DRモジュール マルチステージ式櫛歯形状の分散ツール。乳化、湿式粉砕に適しています。  ■MK/MKOモジュール 円錐形状のコロイドミル。クリアランス調整可能。高濃度、高粘度スラリーまたは、乳化に適しています。 ■ご使用用途 ・水中油型エマルジョンの乳化処理...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 小型 研究 インラインミキサー 卓上実験機 magic LAB 製品画像

    小型 研究 インラインミキサー 卓上実験機 magic LAB

    【テスト可】卓上にてインラインによる混合・分散・乳化プロセスの研究開発…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • ビーズミルの前処理に好適:湿式粉砕機 分散機 乳化機 製品画像

    ビーズミルの前処理に好適:湿式粉砕機 分散機 乳化機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • インライン式 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    インライン式 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年1月30日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 樹脂の高速溶解 : 連続式 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    樹脂の高速溶解 : 連続式 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • メディアレス 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    メディアレス 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • ロールミル不要! 安全性の高い密閉系分散機 製品画像

    ロールミル不要! 安全性の高い密閉系分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • インラインホモジナイザー 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    インラインホモジナイザー 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 食品製造ラインに好適:湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    食品製造ラインに好適:湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 工程改善&生産効率化 : 連続式 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    工程改善&生産効率化 : 連続式 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 金属コンタミゼロのセラミック製 湿式粉砕機 乳化機 分散機 製品画像

    金属コンタミゼロのセラミック製 湿式粉砕機 乳化機 分散機

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • セルロースナノファイバー CNF の湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    セルロースナノファイバー CNF の湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • MLCC(積層セラミックコンデンサ)原料の湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    MLCC(積層セラミックコンデンサ)原料の湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • カーボンナノチューブ、カーボンブラックの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    カーボンナノチューブ、カーボンブラックの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 顔料、塗料、インク、染料の湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    顔料、塗料、インク、染料の湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • シリカ、アエロジルの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    シリカ、アエロジルの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • セラミックスラリーの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    セラミックスラリーの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • リチウムイオン二次電池 電極材スラリー分散 製品画像

    リチウムイオン二次電池 電極材スラリー分散

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 酸化チタンスラリーの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    酸化チタンスラリーの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 化粧品顔料、バルクスラリーの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    化粧品顔料、バルクスラリーの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • フィラー、ポリマーの湿式粉砕 分散 乳化 製品画像

    フィラー、ポリマーの湿式粉砕 分散 乳化

    【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…

    最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 小型卓上セラミックスラリー用分散機 MLCC コンデンサ 製品画像

    小型卓上セラミックスラリー用分散機 MLCC コンデンサ

    【テスト可】チタン酸バリウム ニッケルペースト 等のセラミックスラリー…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • LIB 二次電池 研究開発用 インライン分散機 製品画像

    LIB 二次電池 研究開発用 インライン分散機

    【テスト可】大手メーカーでの導入実績多数! 1台で粉液混合から微分散…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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    API 原薬 湿式粉砕 研究用インライン湿式粉砕機

    【テスト可】国内・海外での実績多数! 原薬湿式粉砕プロセス研究開発の…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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  • カーボンナノチューブ CNT スラリー研究 卓上インライン分散機 製品画像

    カーボンナノチューブ CNT スラリー研究 卓上インライン分散機

    【テスト可】カーボンナノチューブのスラリー化や分散プロセスの研究開発機

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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  • 連続式 粉液混合プロセス 研究開発用 卓上インラインミキサー 製品画像

    連続式 粉液混合プロセス 研究開発用 卓上インラインミキサー

    【テスト可】生産機へのシームレスなスケールアップが可能! 連続式固液…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • 顔料分散 小型卓上インラインハイシェアミキサー 製品画像

    顔料分散 小型卓上インラインハイシェアミキサー

    【テスト可】卓上レベルでインライン循環式・連続式プロセスの研究が可能な…

    ーや循環配管により、機械単体で実験可能 ■様々なモジュールによりあらゆる処理に対応可能 ■DRモジュール:ハイシェア3ステージ分散 ■MKモジュール:ギャップ調整可能なコロイドミル ■MKOモジュール:ギャップ調整可能なコーンミル、セラミックタイプも可能 ■MHDモジュール:粉体と液体の1パスによる連続式混合・分散 ■CMSモジュール:粉体を液体中に吸引混合・分散...

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    メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社

  • スケールアップ 分散機2000シリーズ 製品画像

    スケールアップ 分散機2000シリーズ

    【テスト可】ローターステーターシステムによるシームレスなスケールアップ…

    選択が可能になっており、分散機1台で様々なアプリケーションに対応できます。 ■UTL/DRモジュール マルチステージ式櫛歯形状の分散ツール。乳化、湿式粉砕に適しています。  ■MK/MKOモジュール 円錐形状のコロイドミル。クリアランス調整可能。高濃度、高粘度スラリーまたは、乳化に適しています。 ■MHDモジュール 粉体と液体の連続混合分散システム。高濃度スラリー製造に適...

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