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経年変化なし!プラズマ照射処理で親水・疎水基の密度をコントロール
が可能で、 素材への物理的ダメージを与えません。 【特長】 ■表面に高密度の官能基生成 ■特殊な構造の架橋層生成による官能基の退行を防ぐ ■プラズマエネルギーがマイルドであり、表面エッチングが少ない ■使用可能なガスの種類に制限がない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: エステック株式会社
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