除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

ACE HILIC カラム

ACEカラム群に親水性相互作用クロマトグラフィー（HILIC）用HPL…

＜仕様＞ ・固定相フェーズ： ACE HILIC-A (Propietary シリカ) 　　　　　　　　　ACE HILIC-B (Propietary アミノプロピル） 　　　　　　　　　 ACE HILIC-N (Propietary ポリヒドロキシ) ・粒形　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トムシック 本社

ACE C18-PFP　HPLCカラム

C18フェーズにペンタフルオロフェニル（PFP）基を結合したHPLC用…

・C18とPFP（PentaFluoroPhenyl）のフェーズを併せ持つMixedカラム ・極性塩基性物質の分離能UP ・ピーク形状や再現性に欠かせない「ウルトライナート＆ウルトラピュアシリカ」 ・昇温分析にも優れた安定性 ・超低ブリード特性により、UV・LC／MSに最適 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トムシック 本社