• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 塩化カルシウム系乾燥剤『ハイドライ』(除湿剤・吸湿剤) 製品画像

    塩化カルシウム系乾燥剤『ハイドライ』(除湿剤・吸湿剤)

    シリカゲルの4~10倍の吸湿力! 湿気対策・結露対策に最適な高機能乾燥…

    『HIDRI』は、塩化カルシウムの特長である高吸湿性を最大限に発揮 するように、天然高分子を副成分として配合した高性能乾燥剤です。 シリカゲルなどよりも4~10倍吸湿力が高い為、少ない使用量で済みます。 2~3か月の長期持続性があり、輸送中や保管中に起こる湿気ダメージの対策に非常に有効です! 【特長】 ■2~3カ月の長期間の利用が可...

    メーカー・取り扱い企業: 鈴与商事株式会社 化学品営業部

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