テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリケーションの数も多い。...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウムは重要な無機化合物の一種で、半導体分野では主にドーピングとイオン注入の時に使用されます。四フッ化ゲルマニウムはエチルシランガスと組み合わせることができ、直接ガラス基板上にシリコンゲルマニウム微結晶を作成し、低ノイズ低温アンプ、整流器、発振器、およびその他の半導体デバイスの製造に使用されます；光学分野では、四フッ化ゲルマニウムは光学ガラス製造の場面で添加剤として使用され、光...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホランは、一般的に使用される半導体エッチングガスで、シリコン系材料のエッチングや表面処理によく使用されます。 材料表面の有害な酸化物や有機汚染物質を迅速に除去し、半導体表面の化学的・物理的特性を変化させることができる。...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

CAS：960590-52-7

シリコン素材

CAS：960590-52-7...CAS：960590-52-7...

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