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PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…
近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス
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PR微小異物も確実にキャッチ。電子機器の拭き取り、クリーンルーム内の清掃等…
『ベルクリン シリーズ』は、微細気孔を有し吸水性、保水性にも優れたウェット式拭き取り材です。「ワイパー」としてはもちろん、さらに幅広く機能的に使用するための「モップタイプ」や「スワブタイプ」もラインアップしています。 ソフトな風合いにより、さまざまな対象にフィットし、表面の微細な気孔がパーティクルを確実にキャッチ。紙や繊維素材と異なり樹脂一体構造のスポンジ素材のため、毛羽立ちや糸屑の脱落が無...
メーカー・取り扱い企業: アイオン株式会社
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…
『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直接塗布することが可能です。 (用途に応じて粘度の調節可能) また、青色ジェルのため、拭き残しが一目で確認できます。 【特長】 ■結晶化したシリカ系スケールを基材設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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