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    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

    【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

    、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これまでの常識を打ち破るメタルレジストの開発経緯と今後の課題 ・急速に研究開発が活発化する、原子層プロセス（ALD、ALE）の最新の開発事例 ・次世代半導体メモリデバイス...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

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