除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

電子顕微鏡用液体ヘリウム冷却装置

トランスファーチューブはオリジナルの3重管式を採用！ヘリウムの消費量を…

【仕様】 ■保障最低到達温度：15K以下（実績4.5K） ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：15K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約60分 　（高倍率で長時間の定点温度測...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

液体ヘリウム連続フロークライオスタット

フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価など光学的測定をサポートします…

【仕様】 ■最低到達温度：4.2K以下 ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：4.2K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約40分 ■サンプル交換方式：真空ブロ...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所