• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • PSA窒素ガス発生装置 製品画像

    PSA窒素ガス発生装置

    窒素ガスボンベや液体窒素の半分以下のコストで窒素ガスを供給することも可…

    フタムラ化学グループ内で開発・製造した特殊活性炭(分子篩炭)を使用した窒素ガス発生装置です。 空気を原料としてPSA方式で高純度99~99.999vol%の窒素ガスを供給します。 吸着剤から装置までフタムラ化学グループが一貫してお届けいたします。 特徴 1)幅広いラインナップ  実験室用の小型シリーズから工場等用の大型シリーズまで多くのラインナップがございます。 2)省エネ ...

    メーカー・取り扱い企業: 吸着技術工業株式会社

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