ピュアスチーム発生装置

PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御（予測制御）により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L＋EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

メーカー・取り扱い企業： クリーンメカニカル株式会社 本社

CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素（N2）」を精製！もう大規模な設備…

『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

エリアレーザーソルダリング（はんだ/リフロー）装置

FR４、耐熱基板のみならず、PCやPETなどの耐熱温度の低い基板へのは…

80ｍｍ×80ｍｍの均一な赤外線レーザー照射により、均一な温度プロファイルのレーザー加熱が可能となりました。照射領域は選択可能で、3ｍｍ×3ｍｍから80ｍｍ×80ｍｍまでの領域が設定可能です。さらには、200ｍｍウエハ用の高角加熱や0603コンデンサ対応の挟角均一光を照射する光学系も独自設計可能です。 この技術は、以下の特長を有しています。 【特長】 ■恒温領域のサイズ、形状については、円形、正...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社