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プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光!ナノテックの露光…
マークに対して、 その対面(第2面)の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック
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