真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

高速ランプ加熱装置RP-420型

金属、ウエハ等の高速昇温加熱プロセスに！

高速ランプ加熱装置RP-420型は最高温度700℃対応の高速ランプ加熱装置です。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源にハロゲンランプヒータを採用しており、金属プレート等を高速、高温処理プロセス用です。ワークチャンバーは引出プレート式でワークの 供給排出が簡易に行えます。 また操作パネルは、タッチパネルにより、操作性に優れます。排熱タイプは、水冷、空冷の2方式がありま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー