除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

トリアジン型水酸基保護化剤

中性または酸性条件で使用可能なベンジル化剤をラインアップしています！

塩基性条件下での水酸基のベンジル化反応である Williamsonエーテル合成法が適応出来ない基質に対しては、 中性または酸性条件下でのベンジル化反応が有効です。 当社では、中性または酸性条件で使用可能なベンジル化剤をラインアップ。 また、このような特殊なベンジル化剤を利用する受託製造も承りますので、 お気軽にご相談下さい。 【ラインアップ】 ■TriBOT ■TriB...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナード研究所