ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」(LA)

ターゲットにパルスレーザーを照射してナノ粒子を生成させる技術です。基板…

材の研究開発には最適です。 ・お客様のニーズに合わせてオーダーメイドで設計可能です。 【仕様】 レーザー波長：266～1064nm レーザー出力：Max. 100J/cm2 繰り返し周波数：Max. 10Hz 減圧度：10～5Pa ターゲット 和：１度に4つまで取付可能 付属機器：基盤回転装置、粉体加振機、膜厚計、液相キット ※上記形式以外につきましても、ご要望に応じて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奈良機械製作所