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ガラスマスクとワークをアライメントし、微細なマスクパターンを転写する露…
半導体デバイス、各種センサーをはじめ、多様なデバイス分野での露光工程に 用いられます。 ●研究開発から、小・中ロット製造用に最適です。 【両面マスクアライナー】 ●ウェハー、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークを アライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストにプロキシミティ 及びソフトコンタクト露光にて、微細なマスクパターンを転写するマス...
メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社
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