• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 超純水装置『Aquanex』 製品画像

    超純水装置『Aquanex』

    PRセルフサービスデザインによる利便性だけでなく、インテリジェントなユーザ…

    超純水装置『Aquanex』のご紹介です。 【主な特長】 Aquanexシステムユーザーインターフェース ・大型のフルカラーディスプレイは水質やタンク残量を遠くからでもはっきりと確認できます ・採水データをUSBメモリからダウンロード可能 Aquanexタッチスマートディスペンサー ・扱いやすいピペットスタイルのディスペンサー ・ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンで直感的に操作 ・スタンド...

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    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • 大型窒素ガス発生装置『NE IIシリーズ』 製品画像

    大型窒素ガス発生装置『NE IIシリーズ』

    省エネ機能搭載で窒素ガス発生量20~180N㎥/hの大容量を実現!外部…

    『NE IIシリーズ』は、20-180N㎥/hの発生量をコンパクトな筐体設計で 可能とし、プロセスの改良により、窒素ガス発生量を従来機種比で約36.5%アップしました。 パネル扉の採用により、前後左右のメンテナンススペースが600mmのみで、 余分な設置スペースを排除できます。また、メンテナンスエリアは 装置右側面に集約されています。 【特長】 ■N2発生量が最大36.5%増加...

    メーカー・取り扱い企業: コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

  • 大型窒素ガス発生装置『NEMHシリーズ』 製品画像

    大型窒素ガス発生装置『NEMHシリーズ』

    既存の工場エアを原料空気として使用可能!屋外仕様への対応も可能です!

    『NEMHシリーズ』は、60-180Nm3/hのレンジで業界最小クラスの 設置面積を誇り、窒素ガス発生量を従来機種比(NEシリーズ)で約10%アップしました。 また、独自の省エネ機能「気筒休止システム」を搭載しており、使用量に応じた 省エネ効果が期待できる他、屋外仕様の対応が可能で設置場所を選びません。 【特長】 ■N2発生量が最大12.5%増加 ■窒素ガス使用量に応じた省エネ...

    メーカー・取り扱い企業: コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

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