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真空バルブ『Equalizer Control Valve』
ガスフローを均等にする必要があるプロセスに適した真空バルブ
『Equalizer Control Valve』は、圧力制御が可能な真空バルブです。 排気ポンプを内側に設置出来る為、省スペースに寄与し、ガスフローを 均等にする必要があるプロセスに適しています。 当社では、納期と予算を含め、ご要望に見合った特殊バルブをご提供します。 開口サイズ、圧力、使用流体、温度など、お客様のご要望をぜひお聞かせください。 【特長】 ■圧力制御が可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ブイテックス 本社
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圧力制御中にコンダクタンスゼロまで制御可能なペンドロールバルブ
株式会社ブイテックスが取り扱う『APC ペンドロールバルブ』を ご紹介します。 コンダクタンスゼロ中は少ないガス流量で制御可能なので、 貴重なプロセスガスを節約できます。 オプションにより、シール材質の変更をはじめ、加熱仕様(本体)や 硬質アルマイト等の表面処理が可能です。 【特長】 ■低真空制御時には少ないガス流量でも圧力制御が可能 ■コンダクタンスゼロ中は少ないガス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ブイテックス 本社
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大型化するFPD基板(G11)に対応!横搬送共に無摺動を実現した角型ゲ…
『Gate valve T-Motion』は、バルブサイズ(幅×高さ)の制約無く装置設計者の 思いのままに設定可能な角型ゲートバルブです。 独自のバルブモーションにより、開閉速度を落とすことなく低振動化を 実現しました。 バルブサイズを超えた部品の共通化により、低価格な製品となっております。 【特長】 ■低振動 ■低パーティクル ■低価格 ■さまざまな世代にマッチ ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ブイテックス 本社
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半導体やFPDなどの製造プロセスに活躍!多様なニーズに応えるラインアッ…
当社は、半導体やFPDなどの製造に用いられる 『超高・高真空用バルブ』の設計・製作を手がけています。 ただいま、各種製品を収録した“総合カタログ”を進呈中です。 微細化する半導体プロセスに対応した「True L-Motion Gate Valve」をはじめ、 大型化するFPD基板に対応した「Gate valve T-Motion」や、 少ないガス流量でも圧力制御可能な「APC Pen...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ブイテックス 本社
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ゲートバルブ『True L-Motion Gate Valve』
微細化する半導体プロセスに対応!次世代型角型ゲートバルブのご紹介
『True L-Motion Gate Valve』は、低振動の次世代型角型ゲートバルブです。 OPEN/CLOSE動作時の低振動化のほか、新機構により低発塵化を 実現しました。 オプションにより、シール材質の変更や表面処理の追加が可能です。 【特長】 ■微細化する半導体プロセスに対応 ■低振動:OPEN/CLOSE動作時の低振動化を実現 ■低パーティクル:新機構により低...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ブイテックス 本社
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