• 【セミナー9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除 製品画像

    【セミナー9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除

    先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説します!

    ■ 講 師 1. 反応装置工学ラボラトリ 代表 博士(工学)羽深 等 氏 2. 三菱ケミカル(株) Science&Innovation Center 主席研究員 竹下 寛 氏 3. (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課 プロセス戦略リーダー 岩畑 翔太 氏 ■ 開催要領 日 時 : 2023年9月4日(月) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

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