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PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…
近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス
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法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』
『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…
3.光学レンズのピッチ・ワックス洗浄 4.プリント基板のフラックス洗浄 5.航空宇宙関連部品の脱脂洗浄 6.半導体・電子部品の脱脂洗浄 7.メッキ処理前洗浄 8.シリコーンオイルの希釈溶媒 9.フッ素グリスの希釈溶媒 <問い合わせ先> AGC株式会社 化学品カンパニー 機能化学品事業本部 先端素材事業部 機能商品事業グループ 〒100-8405 東京都千代田区丸の内1-...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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「安全、安心、快適で、環境に優しい世の中を創造する」AGCの新フッ素系…
3.光学レンズのピッチ・ワックス洗浄 4.プリント基板のフラックス洗浄 5.航空宇宙関連部品の脱脂洗浄 6.半導体・電子部品の脱脂洗浄 7.メッキ処理前洗浄 8.シリコーンオイルの希釈溶媒 9.フッ素グリスの希釈溶媒 <問い合わせ先> AGC株式会社 化学品カンパニー 機能化学品事業本部 先端素材事業部 機能商品事業グループ 溶剤ユニット...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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乾燥スピードが水の100倍! 安全に作業できる洗浄剤『アモレア』
『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…
3.光学レンズのピッチ・ワックス洗浄 4.プリント基板のフラックス洗浄 5.航空宇宙関連部品の脱脂洗浄 6.半導体・電子部品の脱脂洗浄 7.メッキ処理前洗浄 8.シリコーンオイルの希釈溶媒 9.フッ素グリスの希釈溶媒 <限定20社 無償サンプルの条件> ・実施期間:2018/9/18~2018/10/14。 ・1企業様につき1回のご応募に限ります。 ・ご応募頂いた企業様...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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