• 間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』 製品画像

    間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』

    PR汚泥処分費削減に貢献&リサイクルにも!食品残渣、その他廃棄物も乾燥でき…

    ボイラからの蒸気を熱源とした蒸気ジャケット(間接加熱)による乾燥熱と、効率の良い熱伝達を考えた遠心造粒で乾燥させる、 安全で容易に運転ができる間接加熱式縦型乾燥機です。 ◇排水処理施設で排出される汚泥だけではなく、食品残渣やその他廃棄物等も乾燥できます。 ◇高速撹拌により乾燥過程でダマになりやすい原料も顆粒状になるので、処理時間も短縮できます。 【特長】 ■幅広い汚泥を乾燥できる ■様々な原料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社西原ネオ

  • MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 高温不活性ガス雰囲気オーブン HTMA400、500、600℃ 製品画像

    高温不活性ガス雰囲気オーブン HTMA400、500、600℃

    不活性ガス雰囲気下での高温処理が可能なオーブンです。

    「HTMA 400℃、500℃、600℃」は、不活性ガス雰囲気下での高温処理が可能なオーブンです。 電子、バッテリー、ソーラーセル、触媒等の材料を試験や製造目的で加処理を行う場合、酸化を防止するのに最適です。 【特徴】 ○最高温度:400℃、500℃、600℃ ○庫内容積:27、95、220L 各種 ○PID 制御による温度制御方式 詳しくは...

    メーカー・取り扱い企業: ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社

  • 高温実験用オーブン 「LHT 400℃、500℃、600℃」 製品画像

    高温実験用オーブン 「LHT 400℃、500℃、600℃」

    幅広い用途に利用可能な卓上タイプのオーブンです。

    「LHT 400℃、500℃、600℃」は、幅広い用途に利用可能な卓上タイプのオーブンです。 電子材料の収縮、硬化、試験の用途、またガラスや金属部品の有機不純物の除去、水分抽出、塗料焼付試験、樹脂硬化等に最適です。 【特徴】 ○最高温度:400℃、500℃、600℃  ○庫内容積:30、60...

    メーカー・取り扱い企業: ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社

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