ESIスプレーチップ

【非常に厳しい公差を実現】ミクロレベルでの厳しい公差を実現し、安定した…

小10um） ◆非常に厳しい公差 を実現しています。 【LOTUS Sharp Singularityエミッター】 「LOTUS Sharp Singularityエミッター」は表面に疎水性処理が施されているため、メニスカスは内径部にのみ固定されています。これにより低電圧でイオン化効率が良く、安定したスプレーを実現します。 The Sharp Singularityエミッターとの比...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

低圧プラズマ装置　粉体処理専用モデル

プログラム番号を選択後、ボタン1つでプラズマ処理完了。操作性がよく、ど…

　Diener GmbH + Co. KGは、低圧プラズマ粉体システムを開発し、疎水性の機能性添加剤を恒久的に親水性にすることで、多くの先駆的な用途に向けた製品特性を改善することができるようになり、新製品開発に数多く携わってきた実績のある製品です。 　例えば、親水化したPEパ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社