• 遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出! 製品画像

    遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出!

    PRコンパクトな装置で遺伝子増幅から検出まで最短30分【食品・検査分野など…

    GENEMAL-ジェネマル-は、LAMP法による「等温遺伝子増幅」と「蛍光検出」を短時間で行うことができる小型の蛍光検出装置です。本装置はヒートブロックを有し、装置搭載のタッチパネルで測定条件を設定することで反応条件の最適化が可能です。また、リアルタイムに蛍光を検出することで遺伝子増幅をモニターすることができ、予め設定したパラメーターでの自動判定も可能です。 さらに、同時発売の食中毒菌検出用LA...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッポンジーン

  • 半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 製品画像

    粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 2周波CCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析 製品画像

    事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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