• 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ 製品画像

    マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ

    PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

    ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...

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    メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社

  • コロイドミル/コーンミル 製品画像

    コロイドミル/コーンミル

    コロイドミル/コーンミル

    ステーター間に生じる摩擦力と、表面のジグザグの溝による乱流発生により、湿式粉砕を行ないます。またコーンミルMKOは、コロイドミルを発展させた機械で、ミリング表面が石臼上に加工されており、さらに細かな粒子サイズを達成します。また、MK/MKOの各ローターステーター間のギャップを処理物に応じて、セッティングできます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンマルエンタープライゼス

  • インライン型高せん断力分散装置 製品画像

    インライン型高せん断力分散装置

    インライン型高せん断力分散装置

    は、摩擦力を使用し、湿式粉砕を行ないます。ローターとステーターのギャップは容易に調整可能です。コロイドミルMKOは、コロイドミルをさらに発展させた機械で、ミリング表面を石臼上に加工して、さらに細かな粒子サイズを達成します。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンマルエンタープライゼス

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