- 製品・サービス
4件 - メーカー・取り扱い企業
企業
37件 - カタログ
214件
-
-
高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶 Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが 知られています。 高分解能なXPSス...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
-
-
TOF-SIMSによる高分子・樹脂・フィルムの表面改質層の深さ方向の評…
ポリイミドは非常に耐熱性が高く電気絶縁性も優れていることから、電子部品をはじめとして様々な分野で用いられている材料です。表面改質を行うことで他の材料との密着性を高めることができることから、改質層の状態を把握することが重要です。今回、有機成分が壊れにくいスパッタ条件にてTOF-SIMS測定を行い、深さ方向にポリイミド成分を評...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
-
-
TOF-SIMSによる高分子・樹脂・フィルムの表面改質層の最表面の評価…
細胞培養シャーレの表面では、細胞の密着性(接着性)を高めるために、疎水性のプラスチック表面を親水性に変える処理が行われています。今回、親水処理を行ったシャーレの表面についてXPS,TOF-SIMSで評価した結果、OH,CHOが増加していることがわかりました。XPSで定量的な評価を行い、TOF-SIMSで定性的な評価を行うことで、表面がどのように変化したかを捉えることが可能です。 ...詳しいデー...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
-
-
高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペク...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
- 表示件数
- 30件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。