• ユニット型純水製造装置『RO-1200』 製品画像

    ユニット型純水製造装置『RO-1200』

    PR導電率2.1μS/cm以下!必要な機器をワンパッケージにして、機器選定…

    『RO-1200』は、純水製造に必要な機器をユニット内にパッケージ化した ユニット型純水製造装置です。 ベースとなる設計があることで、仕入れや製造にかかるコストを抑え、 また、造水量ごとに設計された汎用製品だから短納期化を実現。 お求めの水質グレードに対応するオプション機能をご用意しております。 【特長】 ■必要な機器をワンパッケージに ■ユニット設計で低コスト化を実現&...

    メーカー・取り扱い企業: ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社

  • 洗剤内製化でコスト削減|高pHアルカリ電解水生成装置 製品画像

    洗剤内製化でコスト削減|高pHアルカリ電解水生成装置

    PR【FOOMA出展 実物展示あり】pH 13.2 のアルカリ電解水を高効…

    【FOOMA JAPAN 2024 6/4-7出展。実物展示あり。4B-01(東4ホール)】 『高pHアルカリ電解水生成装置』は、最低限の設備環境で使用可能な製品です。 業界最高水準pH13.2のアルカリ電解水を低コストで生成。酸性水、塩素ガス、廃水が発生しないため、廃液処理コストや管理は不要です。 電解質は環境に配慮した食品添加物を採用しており、環境汚染物質はありません。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社バンガードエンタープライズ

  • IBSコート光学系 ::::: UV波長高出力対応レーザーミラー 製品画像

    IBSコート光学系 ::::: UV波長高出力対応レーザーミラー

    IBSコーティングにより高エネルギーのUVレーザーにもダメージを受けに…

    ◆仕様例◆ 基板:UVFS 表面品質:10-5, S-D 面精度:λ/8 @ 633 nm over CA 入射角:45° コーティング:HRsp > 99.7% (@設計波長) 損傷閾値:  1)343 nm・ピコ秒    > 0.27 J/cm2, 343 nm,1 ps, 50 kHz, p-pol    > 0.52 J/cm2, 343 nm,1 p...

    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • IBSコート光学系 ::::: 部分反射ミラー・出力カプラ 製品画像

    IBSコート光学系 ::::: 部分反射ミラー・出力カプラ

    様々な反射率(20:80, 30:70, 40:60, 33:67, …

    ● 平面、球状、ウェッジなど様々な形状の提案が可能 ● 高い損傷閾値でイントラキャビティ用途に最適化 ● 様々な反射率(20:80, 30:70, 40:60, 33:67, 1:99, etc)を0.05%の誤差で実現 ● 低吸収のUV・IRグレード溶融石英基板によりベストなパフォーマンス ● セグメント分けされたナイフエッジ設計

    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

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