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PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。
ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...
メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社
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蛍光X線(XRF)測定の最高品質前処理装置
ルで簡単操作、セーフティドア、自動シャットダウン等、使用者の安全を第一に考慮した設計です。 【特長】 ■ 完全自動処理 ■ 小型で省スペースの卓上型 ■ 超精密温度コントロールによるプレ酸化 ■ 排気ガス処理機能 ■ 蛍光X線分析法(XRF)に最適な前処理を実行 ■ 溶解最高温度:1250℃ ■ スムーズな立ち上がり ■ 直感的に操作可能なインターフェイス ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社システムズエンジニアリング
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拡散性・反射率に優れた拡散反射材!分光器などの校正に最適
ラブスフェア社が開発した『スペクトラロン標準反射板』は、従来の 硫酸バリウムや酸化マグネシウムに代わる新しい拡散反射材料です。 テフロン粉末を圧縮して成型され、反射標準として広く使われています。 機械加工が可能であるため、レーザーキャビティーやリフレクターなど様々な形状の光学...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社システムズエンジニアリング
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