• ネジ山をなめてしまった…その課題『エンザート』が解決します! 製品画像

    ネジ山をなめてしまった…その課題『エンザート』が解決します!

    PR壊れたネジ穴を再生・補修して強度もアップ!タップ立て不要で、めねじやコ…

    部品のネジ山(めねじ)が破損した場合、どうしていますか? 「ヘリサート・リコイルなどのコイルインサートを使用している」 「サイズアップで立て直しをしている」 「部品交換をしている」 など様々な対応をされているかと思います。 エンザートならその部品を救えるかもしれません! ケー・ケー・ヴィ・コーポレーションが取り扱う『エンザートSBE』は、垂直出しが容易な三つ穴タイプのインサートナットです。 先...

    メーカー・取り扱い企業: ケー・ケー・ヴィ・コーポレーション株式会社

  • 低分子シロキサン除去 シリコーン製品紹介 製品画像

    低分子シロキサン除去 シリコーン製品紹介

    精製技術を活用!当社開発品を使用する事でポストキュア工程は不要になりま…

    培ってきた精製技術を活用して、 低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。 低分子シロキサンは電気自動車に搭載されるEUC(エンジンコントロール ユニット)は密閉性が高く、高温になるEUC内で使用されるシリコーン中の 低分子シロキサンがガス化して充満し、接点障害の原因になる事が 知られています。 また、シリコーンゴム成型後にポストキュア工程で再度加熱し シリコ...

    メーカー・取り扱い企業: 中国精油株式会社

  • 『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発 製品画像

    『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発

    ポストキュア(二次加硫)工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減

    イルブリードの低減に貢献します。 【特長】 ■付加架橋タイプはSi-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去 ■ポストキュア工程を省略でき、生産工程の短縮に貢献 ■密閉性が高く、高温になるECU内での低分子シロキサンガスの発生を抑制 ■シリコーンゴム使用中のオイルブリードも抑制 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 中国精油株式会社

  • 薄膜蒸留(ワイプレン)の基礎知識 設備スペック 製品画像

    薄膜蒸留(ワイプレン)の基礎知識 設備スペック

    蒸発を短時間で行う為、原料や不純物の分解がなく、必要な製品が取得可能!…

    『薄膜蒸留』は、高真空による低温蒸留で、様々な性質の化学物質に対応が可能です。 薄膜蒸留設備を用いて高真空下で低温加熱する事で熱に不安定な物質の蒸留も可能。 高真空化で高温加熱する事で高沸点(常圧沸点500℃)の物質も蒸留が可能になります。 ラボ試験から実機製造まで様々な設備と装置を用いて対応いたします。 また、高反応性・熱分解性物質の精製、シリコーン業界にお...

    メーカー・取り扱い企業: 中国精油株式会社

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