日本セミラボ株式会社新横浜本社
最終更新日:2020-09-16 15:40:12.0
分光エリプソメータ
基本情報分光エリプソメータ
分光エリプソメータ
エリプソメーターは、偏光の測定原理を用いて、薄膜の膜厚値、光学特性(屈折率、消衰係数)を高精度に測定します。絶縁膜、有機膜、金属膜などの単層膜や多層膜の測定が出来、また表面粗さ(表面ラフネス層)や界面層の評価も可能です。セミラボ社製の分光エリプソメーターSE-2000では、回転補償子型を用いて高精度な測定を実現しています。製品の価格は、お気軽に問い合わせ下さい。
分光エリプソメーター GES5E
日本セミラボの分光エリプソメーター『GES5E』は、従来の光学測定器では不可能だった薄膜光学特性の測定を非破壊で実現しました。
薄膜、多層膜の膜厚、各層の屈折率(N,K値)波長分散を算出。研究開発からインライン生産品質管理ほかあらゆる分野で活躍しています。
【測定可能な物理特性】
■厚さ光学屈折率
■屈折率の勾配と材料組成
■ドーパント濃度 (詳細を見る)
回転補償子型 分光エリプソメータ『SE-2000』※セミナー開催
『SE-2000』は、薄膜の膜厚・屈折率を“非接触”で高精度に測定できる回転補償子型の分光エリプソメータです。
ユーザーフレンドリーな解析ソフトを備えており、解析作業が容易。
深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応しています。
材料の組成比、異方性、Mueller Matrix、偏光解消度、反射率・透過率、ドーパント濃度、
リタデーション(R0、Rth)などに関する検査にも対応しており、幅色い用途で活用可能です。
【特長】
■高精度CCD、高分解能PMT搭載 ■光学モデルのデータベースが豊富
■多彩な拡張オプション ■販売実績が多数
〈 セミナー詳細 〉
■テーマ:分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明~初級編~
■開催日時
・4/22(木) 10:00~
・5/13(木) 16:00~
■内容
一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。
有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明。
※参加方法は、当社ホームページ(下記リンク)でご確認ください。 (詳細を見る)
取扱会社 分光エリプソメータ
■半導体測定装置の輸入販売及び技術サービスの提供 ■下記製品の取り扱いをしています。 分光エリプソメーター 非接触シート抵抗測定装置 DLTS測定システム ナノインデンター AFM(原子間力顕微鏡) キャリア移動度測定装置 非接触CV測定装置 ライフタイム測定装置 フォトルミネッセンス 装置仕様や価格情報などお気軽にお問い合わせください。
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