カタログ発行日：2021/4/7

【分析事例】Si自然酸化膜の膜厚評価_C0279

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基本情報【分析事例】Si自然酸化膜の膜厚評価_C0279

XPSを用いたウエハ表面数nmの膜厚の見積もり

シリコンウエハ上の自然酸化膜・シリコン酸窒化薄膜など厚さ数nm以下の極薄膜について、XPS分析によって膜厚を算出した事例をご紹介します。Siウエハ最表面のSi2pスペクトルを測定し、得られたスペクトルの波形解析を行うことにより、各結合状態の存在割合を求め、この結果と光電子の平均自由行程か
ら膜厚を見積もることが可能です（式１）。
XPSでは非破壊かつ簡便に、広域の平均情報として基板上の薄膜厚みを算出することが可能です。

取扱会社【分析事例】Si自然酸化膜の膜厚評価_C0279

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