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最終更新日:2016-03-14 11:27:33.0

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【バブル発生装置】究極の超高濃度ファインバブルを実現

基本情報【バブル発生装置】究極の超高濃度ファインバブルを実現

金属コロイドや金属イオンが発生しない!食品、医療、化学合成、半導体、金属加工の脱脂洗浄、樹脂加工の洗浄にも応用が可能

【掲載内容】※詳しくは資料請求、またはカタログをダウンロードしてください。

トスレック独自の新ハイブリッド方式は、ファインバブル連続圧壊技術により微細均一高濃度気泡(ホモジニアスバブル)を生成します。これによりバブル生成時に凝集作用を極小化でき、バブルの超高濃度化が可能です。
バブルの粒径・濃度制御を行い目的ごとに最適なバブルを生成します。
オゾンをファインバブル化することで、現在主流となっている次亜塩素酸(150ppm)以上の殺菌効果を実現します。

【特徴】
■洗浄を兼用した殺菌操作が可能
■殺菌薬液不要で、洗浄・殺菌水も少量で可能
■ファインバブルが微細均一化でき、バブルの粒径・濃度制御と超高濃度化が可能
■気密タンク使用によりオゾン気中濃度が変化せず排ガス対策不要
■樹脂使用でも高濃度化できる
■金属粒子や金属イオン発生せず用途制限なし
■バブル化する対象の液/ガスを選ばず

【バブル発生装置】究極の超高濃度ファインバブルを実現

【バブル発生装置】究極の超高濃度ファインバブルを実現 製品画像

トスレック独自の新ハイブリッド方式は、ファインバブル連続圧壊技術により微細均一高濃度気泡(ホモジニアスバブル)を生成します。これによりバブル生成時に凝集作用を極小化でき、バブルの超高濃度化が可能です。
バブルの粒径・濃度制御を行い目的ごとに最適なバブルを生成します。
オゾンをファインバブル化することで、現在主流となっている次亜塩素酸(150ppm)以上の殺菌効果を実現します。

【特徴】
■洗浄を兼用した殺菌操作が可能
■殺菌薬液不要で、洗浄・殺菌水も少量で可能
■ファインバブルが微細均一化でき、バブルの粒径・濃度制御と超高濃度化が可能
■気密タンク使用によりオゾン気中濃度が変化せず排ガス対策不要
■樹脂使用でも高濃度化できる
■金属粒子や金属イオン発生せず用途制限なし
■バブル化する対象の液/ガスを選ばず

※詳しくは資料請求、またはカタログをダウンロードしてください。 (詳細を見る

取扱会社 【バブル発生装置】究極の超高濃度ファインバブルを実現

トスレック株式会社

プリント基板の設計・製作・販売・プリント基板の実装(アキシャル・ラジアル・チツプ・COB)・半導体・電子部品・規格コード・ワイヤハーネスの販売・0A周辺機器の関発および製造・販売 。

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