一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
最終更新日:2016-08-24 14:33:58.0
【分析事例】Si表面のH終端の解析
基本情報【分析事例】Si表面のH終端の解析
処理の違いによるSi表面のSiHや状態の定性・相対比較
分析の事例をご紹介します
【分析事例】Si表面のH終端の解析
Si表面についてHF処理後、オゾン処理後の状態を比較しました。
正イオンスペクトルではSiのピーク強度が異なりました。HF処理後のSi強度が弱いのはSiが金属系のためで、一方、UV-オゾン洗浄後やAs ReceivedのSi強度が強いのはSiが酸化物系のためです。
負イオンスペクトルからは、HF処理後ではSiF,SiH,Six系、UV-オゾン洗浄後やAs ReceivedではSiO2系など表面状態を反映したフラグメントイオンが検出されています。 (詳細を見る)
取扱会社 【分析事例】Si表面のH終端の解析
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