露光装置『マニュアルマスクアライナ』

半導体をはじめ、多方面への応用可能。等倍露光によりパターン形成を行う

昭和サイエンスの『マニュアルマスクアライナ』は、ワークに上に
形成したフォトレジスト等に、所定のパターンを有するフォトマスクを用い、
等倍露光によりパターン形成を行う装置となります。

マスク上に配置されたアライメントマークと、ワーク上に形成されたアライ
メントマークとを 顕微鏡により観察しながら、手動によりXYθステージを操
作してアライメントを行います。

【特長】
■最適な光学系との組み合わせにより、アライメント作業が容易
■シリコン・ガラス・フィルムなどの様々な材質、不定形サイズの基板等にも対応可能
■アライメント顕微鏡の対物レンズは高アライメントや膜厚などの用途に応じ、対応可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。