株式会社魁半導体
最終更新日:2017-01-18 17:46:12.0
室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料】
基本情報室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料】
リフロー性が高く、凹凸面への薄膜形成に強い!
室温かつ大気圧環境でガラス薄膜を形成します。リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています。膜原料のロスが極僅かな上、安価な膜原料で形成可能なのでコスト削減もできます!ガラス代替ポリカへの保護膜形成、携帯電話の画面保護フィルム、親水コーティングなどに最適です。
【特長】
・室温かつ大気圧での薄膜形成!
・リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています!
・膜原料のロスが極僅か!安価な膜原料で形成も可能!
【用途例】
・ガラス代替ポリカへの保護膜形成!
・携帯電話の画面保護フィルム!
・親水コーティング!
・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング!
※詳細については、お問合せまたは、下記よりカタログをダウンロードしてご覧ください。
室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料進呈!】
室温かつ大気圧環境でガラス薄膜を形成します。リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています。膜原料のロスが極僅かな上、安価な膜原料で形成可能なのでコスト削減もできます!ガラス代替ポリカへの保護膜形成、携帯電話の画面保護フィルム、親水コーティングなどに最適です。
※今なら【即納キャンペーン開催中】です!驚きの短納期で薄膜形成装置などの当社装置をご提供いたします。詳しくはカタログをダウンロードください。
【特長】
・室温かつ大気圧での薄膜形成!
・リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています!
・膜原料のロスが極僅か!安価な膜原料で形成も可能!
【用途例】
・ガラス代替ポリカへの保護膜形成!
・携帯電話の画面保護フィルム!
・親水コーティング!
・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング!
※薄膜形成技術についてや即納キャンペーン詳細については、お問合せまたは、下記よりカタログをダウンロードしてご覧ください。 (詳細を見る)
取扱会社 室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料】
・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売 ・工業用石英ガラスの販売、および加工 ・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売 ・堆積代行、エッチング代行 ・半導体プロセスのコンサルティング業務
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