粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。
お客様のニーズに合わせた対応も可能です。

【ラインナップ】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能

《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに

この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、
プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 （詳細を見る）

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ （詳細を見る）

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

点火プラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ （詳細を見る）

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

点火プラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、重点メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ （詳細を見る）

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した
プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した
シミュレーションソフトウェアです

・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD) など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
information@wavefront.co.jp （詳細を見る）

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した
プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した
シミュレーションソフトウェアです

・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD) など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。 （詳細を見る）

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・点火プラグ(スパークプラグ)
・遮断機
・大気圧放電
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
・溶射
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VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・点火プラグ(スパークプラグ)
・遮断機
・大気圧放電
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
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『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した
プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです

・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする
・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析
・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析
・自社開発ソフトの強みとして
　お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD) など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。
・低圧プラズマ解析を得意とします
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
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お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
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・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

ポンプやバルブの熱流体解析を中心に培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。 （詳細を見る）

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

CAEの受託解析で培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。 （詳細を見る）

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

CAEの受託解析で培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。 （詳細を見る）

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

CAEの受託解析で培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。 （詳細を見る）

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

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プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

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・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
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・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
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・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

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・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
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・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
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・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

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・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
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・PVD、プラズマCVD
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・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

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・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
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装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
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・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
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・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

ポンプや弁の熱流体解析を中心に培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。 （詳細を見る）

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。
Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても
高速にシミュレーションを行うことができます

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
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代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。
Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。
Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、
RFマグネトロンスパッタの解析事例です。
Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、
高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。
3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、
より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。


◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です
Particle-PLUSで利用可能な
1)軸対称モデル
2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます

◇『Particle-PLUS』の特徴
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元)3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとしてカスタマイズも可能です

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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