一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
最終更新日:2018-01-18 17:09:11.0
【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
基本情報【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能
分析の事例をご紹介します
【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。
レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボラック樹脂、感光剤としてナフトキノンジアジド化合物が用いられています。本事例では熱分解GC/MS法によってナフトキノンジアジド化合物を分解し、母核の構造を推定した事例を紹介します。 (詳細を見る)
取扱会社 【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
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