日本アイ・ティ・エフ株式会社
最終更新日:2018-12-28 15:13:55.0
次世代アークイオンプレーティング装置シリーズ
基本情報次世代アークイオンプレーティング装置シリーズ
工具・金型・機械/自動車部品の高機能、高性能化に役立ちます!
『次世代アークイオンプレーティング装置シリーズ』は、
磁場ステアリング方式を利用した新開発アーク蒸発源を搭載し、
各コンポーネントの高性能化で、低コスト短サイクル(当社従来比)の
コーティング処理を可能とした装置です。
設置スペースW 3.5×D 5.2mの小型生産機・研究開発機「iDS-mini」や
W 5.5×D 6.3mの汎用生産機「iDS500」をご用意しております。
【特長】
■大幅なコーティング材料コストの低減
■大幅なサイクルタイム短縮を実現
■フルカバースタイルで静粛性・安全性を向上
■ダスト対策(オプション)※iDS500のみ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型生産機・研究開発機『iDS-mini』
『iDS-mini』は、大幅なコーティング材料コストの低減ができる
小型生産機・研究開発機です。
新開発のアーク蒸発源はカソード材料をφ160×t12のサイズまで大型化し、
広い面積を効率よく消耗させるため、磁石を回転させる独自の構造と
なっています。
これらによりカソード材料の長寿命化が達成され、カソード材料コストは
約4分の1まで低減させることができます。(当社従来比)
【特長】
■磁場ステアリング方式を利用した新開発アーク蒸発源を搭載
■低コスト短サイクルのコーティング処理が可能
■磁石を回転させる独自の構造(特許出願済み)
■カソード材料コストは約4分の1まで低減できる(当社従来比)
■大幅なサイクルタイム短縮を実現
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
汎用生産機『iDS500』
『iDS500』は、磁場ステアリング方式を利用した新開発アーク蒸発源を
搭載し、かつ各コンポーネントを高性能化したことにより、
低コスト短サイクルのコーティング処理を可能とした
次世代アークイオンプレーティング装置です。
真空ポンプをカバー内部に収納することで、設置環境の静粛性を向上。
また、アーク蒸発源の荷電部や配線類をカバーで覆い、インターロックを
付与することで安全性も向上しました。
【特長】
■大幅なコーティング材料コストの低減
■大幅なサイクルタイム短縮を実現
■ダスト対策(オプション)
■フルカバースタイルで静粛性・安全性を向上
■低コスト短サイクル(当社従来比)のコーティング処理が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
取扱会社 次世代アークイオンプレーティング装置シリーズ
セラミックコーティングの受託加工業務。プラズマCVD法,PVD法などにより成膜を行います。 弊社のジニアスコート膜種は、特徴のあるDLC各種、チタン系膜(TiCN系多層膜、TiN、TiAlN)、クロム系膜(CrN、超多層膜)が可能。
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